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Riadh ISSAOUI

Paris

En résumé

//Sciences et ingénierie de matériaux// procédés plasmas// :

+ Dépôt par voie vapeur chimique (CVD) ou physique (PVD) ou plasma ionisé (IPVD)

+ Caractérisation de matériaux par Raman, FTIR, microscopie optique ou MEB, TEM, EELS, XPS, profilométrie, diffraction des rayons X ....

+ Croissance de matériaux semi-conducteurs en couche minces et caractérisation des films obtenus

+ Familiarité avec la salle blanche: gravure par ICP (inductively coupled plasma), lithographie électronique ...

+ Développement de procédés de traitement de surface par plasma

+ Développement de procédés pour fabriquer des composants innovants.

+ Installation, qualification, maintenance, et mise à niveau des équipement de dépôt sous vide.

+ Gestion de projets et aptitude à collaborer avec plusieurs partenaires.

+ Formation et encadrement de techniciens, étudiants et assistants ingénieurs.

Mes compétences :
Couches minces
Encadrement
Sciences des matériaux
Recherche et développement
Gestion de projet
Traitement de surface
Traitement 8D, Monitoring APC entretien et install

Entreprises

  • CNRS

    Paris maintenant

  • Laboratoire LSPM/CNRS (Laboratoire des Sciences des Procédés et des Matériaux)

    maintenant

  • ALTIS - Manager maintenance et méthodes, secteur DRY ETCH

    2015 - maintenant

  • Altis - Coordinateur technique, secteur maintenance dry etch

    2015 - 2015

  • ALTIS - Ingénieur de procédés et d'équipements

    2012 - 2015 Responsabilités : Garantir la robustesse des procédés de dépôt de couches
    minces par voie chimique en phase vapeur (CVD). Assurer la bonne qualité
    des produits. Maintenir les équipements de dépôts en bon fonctionnement.
    Transfert de technologie.

  • CEA - Saclay - Ingénieur de recherche

    Gif-sur-Yvette 2012 - 2012 Projet : Protocole d’élaboration et caractérisation de cellules photovoltaïques. Réaliser des cellules photovoltaïques à partir de mélange nanotube de carbone et nanoparticules de TiO2

  • Université Paris 13 - LSPM CNRS - Attaché temporaire d'enseignement et de recherche

    2011 - 2012 Chercheur - Chargé de projet de recherche au Laboratoire des Sciences
    des Procédés et des Matériaux (LSPM-CNRS).
    Projet Diamonix 2 : Consortium Pôle de compétitivité Aerospace Valley
    piloté par ALSTOM. Coût total 2,2 M EUR .

    + Synthèse de diamant CVD par plasma micro-onde pour des applications en électronique de puissance, photonique, optique ...
    + Mon rôle est principalement le développement de nouveaux procédés pour améliorer la qualité du diamant déposé ainsi que la formation de doctorants, stagiaires et assistants ingénieurs.

  • LSPM CNRS - Thèse de doctorat

    2008 - 2011 Thèse de doctorat au Laboratoire des Sciences des Procédés et des
    Matériaux (LSPM-CNRS).
    Très honorable avec recommandation du jury

    Elaboration de films épais de diamant monocristallin dopé au bore par
    dépôt chimique par voie vapeur (CVD) assisté par plasma pour des
    applications en électronique de puissance.

    * Projet Diamonix 1 : Consortium Pôle de compétitivité Aerospace Valley
    piloté par ALSTOM Coût total 4,6 M EUR .

    l'intérêt de ce projet est de développer un composant électronique travaillant à haute puissance, concrètement à long terme ce composant sera utilisé pour mettre en place des convertisseur de puissance permettant de mettre en réseau toutes les sources d'énergie.

    Responsabilités scientifiques et techniques:
    * Le développement de procédés PECVD permettant la synthèse de
    cristaux de diamant dopé au bore et la caractérisation des films obtenus.
    * Responsable des équipements de croissance de semi-conducteurs
    (installation, maintenance, mise à niveau, etc ...).

    Responsabilités en gestion de projets

  • IMN/CNRS - Stagiaire Master 2 recherche

    2008 - 2008 Synthèse de nanocomposites Carbone (DLC) - Métal par un procédé hybride IPVD/PECVD
    Utilisation de plasma RF et DC pour le développement de matériaux pour des applications tribologiques ou électrochimiques.

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Réseau

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